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设备更新 | DENS TEM 原位样品杆产品选型指南

发布时间: 2024-07-10  点击次数: 1872次

原位样品杆系列产品在科学研究和工业领域具有广泛的应用,研究人员可以利用这些设备进行材料结构、相变、生长过程、电化学反应等方面的原位观察,在材料性能、催化、电化学,纳米技术和材料合成等许多领域都具有广泛的应用。

 

 

原位样品杆系列产品选型 

 

01 Arctic TEM 原位冷冻热电样品杆

 

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Lightning Arctic TEM 原位冷冻热电样品杆是 DENSsolutions 全新升级创新的原位解决方案,可以在冷却或加热样品的同时,对其施加可控的电学刺激,并以原子级分辨率在透射电镜下观察样品的实时动态过程。

 

主要性能参数

1.系统操控模式:冷冻&加电,加热&加电

2.可运行的温度范围:≤ -160 ℃ - 800 ℃

3.冷冻方式:外置液氮罐

4.却和稳定时间:≤ 60 min

5.分辨率:≤ 1 Å(取决于透射电子显微镜配置)

6.可达到的电流范围:1 pA - 100 mA

 

02 Lightning TEM 原位热电样品杆

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Lightning 原位热电样品杆可在精确控制加电和加热环境的同时观察样品变化的实时动态过程。Lightning 能够在进行热学研究的同时,在 pA 电流灵敏度下进行 I-V 测试,其搭配的 Nano-Chip 芯片能在 900 ℃ 高温下同时实现高于 300 kV/cm 的电场,芯片拥有多种配置,能够满足不同的实验要求,同时保持 TEM 的原子级分辨率成像能力。

 

主要性能参数

1.温度范围:RT - 1,300 °C

2.可达到的电场范围:≥ 300 kV/cm at RT/900 °C

3.可达到的电流范围:1 pA - 100 mA

4.可达到的分辨率:≤ 60 pm

5.分辨率:≤ 1 Å(取决于透射电子显微镜配置)

6.漂移率:≤ 0.5 nm/min  

 

03 Climate TEM 原位气相加热样品杆

 

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Climate 原位气相加热样品杆可在在气氛环境下同时观察样品在加热时的状态变化,能够在 2 bar 的气体环境中进行达 1000 ℃ 的高温实验,并保持 TEM 的原子分辨率,与 DENS 专有的气体分析仪集成组合使用,可进行反应产物分析,是当前市场上少有的支持结构和化学信息动态关联的原位系统。

同时为了满足客户研究蒸汽类反应物对材料的影响的实验要求,我们设计了蒸汽发生器,能够单独地将蒸气添加到任何气体混合物中,并拥有独立控制蒸汽参数的能力,便于开展相对应的研究,为原位实验中提供实验自由度。

 

主要性能参数

1.加热范围:RT - 1,000 °C

2.温度稳定性:≤ ± 0.01 °C

3.分辨率:≤ 100 pm(取决于透射电子显微镜配置)

4.漂移率:≤ 0.5 nm/min

5.气体输入管线:3

6.气体流量范围(标准化):0, 0.01-1 ml / min

 

04 Stream TEM 原位液相加热/加电样品杆

 

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Stream 原位液相加热/加电系统为材料科学、化学和生物学中各类研究提供了全新的观察视野。其设计的 Nano-Cell 芯片使其对样品加热或加电时可独立控制流速和液体厚度。

 

同时全新升级可集合组装的液体供应系统 (LSS) ,引入了精准控制和可重复使用的惰性气体吹扫能力。通过吹扫,可以迅速去除样品中多余的液体,从而实现高分辨成像、有价值的元素分析和电子衍射。并且液体供应系统 (LSS)能够主动测量液体流量,便于比较不同的实验结果。此外,这意味着可以很容易地发现系统中潜在的堵塞,并迅速采取行动,能够高效和有效地利用 TEM 机时。这些设计为原位液相实验的原子级分辨像和高质量的 EDS、EELS 结果带来了新的可能性。

 

主要性能参数

1.温度范围:RT - 100 °C

2.液体模式:静态液体、流动液体

3.液体流量测量:可测量,通过入口液体流量计

4.液体厚度控制:可控制,通过入口和出口液体压力控制

5.可达到的分辨率 :≤ 3 Å (取决于透射电子显微镜配置)

6.可达到的电场范围:1 pA - 100 mA

 

 

 

05 Wildfire TEM 原位加热样品杆

 

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Wildfire 原位加热样品杆旨在探索材料在高温下的反应和状态变化而设计,其稳定性超越了市场上大部分的同类产品,温度范围高可达 1300 ℃,并在所有的方向上保证优异的温度控制性和样品稳定性,确保了在高温下观察样品动态变化过程,且 TEM 保持较高的分辨率和分析性能。

 

Nano Chip 芯片和四点探针法可快速反馈温度变化情况,从而实现即时稳定和精确的温度控制,避免出行加热不均匀或热反馈不及时的问题。对于需要进行高温下三维重构研究的客户,可选择配备了 α 倾转角高达 70° 的样品杆,以便进行多方位的研究。

 

主要性能参数

1.加热控制:四探针法

2.温度范围:RT - 1,300 °C

3.温度均匀性:≥ 99.5 %

4.分辨率:≤ 60 pm(取决于透射电子显微镜配置)

5.漂移率:≤ 0.5 nm/min

6.视野范围:850 µm2

 

 

DENS 软件系统:Impulse 集成软件

 

 

Impulse 软件让研究人员可以控制实验条件,只需在电脑上设置好所需的原位观测实验条件,Impulse 将完成剩下的工作。在原位 TEM 实验期间,软件将根据设置好的条件进行实验验证过程,而您只需专注于实验结果,同时软件上可以存储您的实验设计,以便重现实验过程。

 

软件特征和优势:

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01.智能自动化:在实验过程中,您可以专注于其他事情,而智能自动化会跟踪测量结果并确保满足所设置的样品条件。

 

02.灵活的数据仪表板:Impulse 在排列和调整图表大小方面为您提供了极大的灵活性,可轻松掌握任何数据细节。

 

03.数据整合:软件支持将您的原位环境条件实验数据与其他数据同步,并在几秒钟内为您的相机和探测器图像提供环境条件注释。

 

04.实验自由:Impulse 软件支持您使用自己创建的 Python 脚本进行实验控制。您可以选择创建自己的脚本,或者使用我们的预制脚本,甚至可以在线访问数千个 Python 模块。这种实验自由将使您能够扩展研究范围并开展您的创造性实验控制。

 

 

全新升级的 FIB 样品台


 

DENSsolutions 现在推出了第三代 FIB 制样样品台,此设备可以帮助您更简单、更安全、更快捷地制备薄片样品,且适配 DENS 样品杆芯片。

 

 

TEM 样品制样设备

 


 

Technoorg Linda 的主要产品包括离子研磨仪、离子减薄仪、离子精修仪和样品制备相关的配件和耗材。其产品可配备了超高能离子枪和低能离子枪,通过控制离子束的能量和角度,可对样品进行快速研磨及表面精细加工和抛光。Technoorg Linda 系列离子束样品制备仪器是先进的样品制备工具之一,广泛应用于电子显微镜、X 射线衍射、能谱分析和纳米技术等领域。

 

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Unimill 离子减薄仪:用于 TEM/XTEM 样品制备的全自动离子束减薄系统

Gentle Mill 离子精修仪:用于制备高质量 TEM/FIB 样品的离子束工作站



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