2026飞纳电镜选型指南-智能显微新时代，让微观世界触手可及！

2026飞纳电镜选型

飞纳（Phenom）源自 FEI，诞生于荷兰“发明之城"埃因霍温，以“任何人都可用的扫描电镜"理念，现已发展成为台式扫描电镜领域的品牌。始终致力于让扫描电镜测试更简单、更高效，是飞纳不变的初心。

2026 年，飞纳电镜迎来第七代产品革新，为中国 2500+ 用户带来更智能、更高效、更可靠的显微分析体验。覆盖数百所高校、中科院等科研院所、政府机构，以及新能源、生命科学等多个工业领域。其应用研究方向广泛，涵盖金属与合金、电池、地质与考古、高分子材料、静电纺丝、陶瓷与复合材料、生物医学、微生物等多个前沿与交叉学科。

同时，飞纳电镜支持拓展 EBL 功能，自主编程功能，原位拉伸/压缩功能，原位加热/冷冻功能，样品真空转移等，亦可进行定制化。

制样简单 无需喷金即可观察不导电样品

Part 01台式场发射扫描电镜

飞纳台式场发射扫描电镜采用防震设计，在紧凑的台式机身上实现接近大型场发射电镜的成像性能。其低电压成像能力有效降低电子束对样品的损伤与穿透，较大程度还原样品的真实表面形貌。

在延续电镜与能谱一体化设计的基础上，系统进一步升级快速面扫描功能，可即时呈现元素分布；配合实时能谱分析，实现成分信息的同步获取，显著提升检测效率与分析可靠性。

产品特点

• 肖特基场发射电子枪

• 分辨率超高的台式电镜

• 可选 STEM 模式：BF、DF、HAADF 像

• 低电压成像

• 电镜能谱一体化设计

• 不受震动、磁场等环境因素干扰

型号推荐

Pharos STEM 扫描透射电镜

• 分辨率：优于 1nm

• 成像模式：BF、DF、HAADF

Pharos G2 台式场发射扫描电镜

• 分辨率：优于 1.5 nm

• 放大倍数：2,000,000 X

Nano G2 台式场发射扫描电镜

• 分辨率：优于 2.5 nm

• 放大倍数：1,000,000 X

Part 02 CeB6 灯丝扫描电镜

全新一代 CeB₆ 晶体灯丝扫描电镜实现关键性能突破，将单根灯丝寿命提升至 3000 小时，使灯丝更换周期由平均 3 年延长至约 5 年，显著降低维护频率与使用成本。

飞纳电镜采用台式一体化设计，具备防震能力，对安装环境要求低。操作流程高度简化，适配不同经验层级的用户，仅需约 30 分钟培训即可独立上手。同时，系统支持多种特色功能扩展，满足科研与工业应用的多样化需求。

产品特点

• 稳定可靠：80  年技术传承

• 采用 CeB 晶体灯丝：3000h 超长使用寿命，平均 5 年换灯丝

• 自动化与 AI 智能扫描电镜

• 内置减震系统，可直接放置于生产车间、高楼层 QC 实验室等

• 原厂集成能谱 EDS：从电子光学设置、图像采集到能谱分析和面分布，都在同一个统一、直观的界面中完成

• 低电压成像功能：对于不导电、导电性差、以及电子束敏感样品，不喷金，仍具有成像能力

型号推荐

Phenom XL G3 大仓室自动化电镜

发布的大仓室自动化扫描电镜 Phenom XL G3，以 3000 小时长寿命 CeB₆ 晶体灯丝与全新 AI 智能自动化平台为核心，实现性能稳定性与检测效率的双重跃升。Phenom XL 可对不超过 100x100mm 的样品进行分析，8nm 的分辨率为分析提供更多的细节。在保证高分辨率成像与元素分析能力的同时，大幅降低维护频次与使用门槛，显著提升设备稼动率。

小仓型号推荐

Phenom ProX G7

• 放大倍数：350,000 X

• 分辨率：优于 6 nm

• 探测器：BSD，SED（可选），EDS

Phenom Pro G7

• 放大倍数：350,000 X

• 分辨率：优于 6 nm

• 探测器：BSD，SED（可选）

Phenom Pure G7

• 放大倍数：175,000 X

• 分辨率：优于 10 nm

• 探测器：BSD，SED（可选）

Part 03AI 智能化扫描电镜

Phenom AI 智能扫描电镜，支持全流程自动成像和自由编程（PPI）功能（适配所有飞纳型号），为微观世界的探索带来了自由度和无限可能。

产品特点

• 机械手自动上样：无需人工，高一致性标准操作

• 全流程自动成像与参数调节

• 数据数字化回传

• 自由编程：打造私人订制工作流

• 高稳定性环境适应能力

• 大幅提高工作效率

Part 04.ParticleX 全自动扫描电镜

ParticleX 基于扫描电镜与能谱分析技术，融合自动化控制系统与高性能数据库平台，实现杂质颗粒的全自动识别、成分分析及分类统计。系统可在无人干预条件下完成从检测到数据输出的完整流程，为研发与生产过程提供快速、准确且可追溯的定量数据支持，显著提升分析效率与质量管控水平。

型号推荐

ParticleX Battery 全自动锂电清洁度分析

• Cu、Zn 异物及铁磁性异物检测

ParticleX AC 全自动汽车清洁度检测

• 符合 ISO16232，VDA19 标准

• 全自动检测 SiO，AlO等硬质颗粒和成分

ParticleX Steel 全自动钢铁夹杂物分析

• 一体化钢中非金属夹杂物分析

ParticleX 全自动颗粒统计分析

• 颗粒分析及过程控制的工业级解决方案

Part 05 刑侦专用扫描电镜

Diatom AI 自动检测系统（电镜）

DiatomAI™ 利用人工智能的技术，赋能法医硅藻检验系统，配合 DiatomScope™ ，实现了扫描和检测的全自动化。它是目前市面上可靠、高效、自动化程度高的硅藻检测解决方案，帮助法医在检测过程中实现硅藻的全自动检测，识别过程全程无需人工参与。大大缩短了检测时间，提升工作效率。

Phenom GSR 枪击残留物分析

在枪击事件中，枪击残留物（GSR）的分析发挥着重要的作用。GSR 分析技术首先基于扫描电子显微镜（SEM）的背散射成像，用来扫描样品和发现 “可疑" 的 GSR 颗粒。一旦发现可疑的颗粒，使用能谱（EDS）识别该颗粒的元素。常见的搜索元素为 Pb，Sb 和 Ba。无铅底火的检测，例如 Ti 和 Zn 也可作为搜索条件进行搜索。

Part 06.原子力显微镜系列

1.Phenom AFM-in-SEM 原子力扫描电镜一体机

产品特点

• 相关多模态样品分析：可将同位置的 AFM （三维形貌、电学、磁学等） 和 SEM （二维形貌、EDS等）数据无缝关联。

• 原位样品表征：在 SEM 内部的原位条件下确保样品分析同时、同地、同条件下进行，在飞纳电镜内部也能实现原子级分辨率。

• 精确定位感兴趣区域：使用 SEM 导航 AFM 探针到感兴趣区域，定位更精准，且定位速度远超传统 AFM。

2.LiteScope AFM-SEM 电镜式原子力显微镜

产品特点

• 使用 SEM 对 AFM 探针进行精准定位，并实现高分辨成像

• 同一时间、同一位置和相同条件下获取 AFM 和 SEM 数据，并无缝关联

• 测量模式可涵盖形貌、CPEM、KPFM、MFM、PFM、STM、EFM、C-AFM、I/V 特性、F/z 特性等，可选配纳米压痕

• 可兼容赛默飞世尔、TESCAN、蔡司、日立、日本电子等主流品牌，其他品牌亦可定制

3.icspi 原子力显微镜

icspi 是一家专注于扫描探针显微技术的加拿大高科技公司，在原子力显微镜系统设计、探针控制与纳米级表征技术方面拥有深厚的技术积累。其 AFM 产品以高稳定性、高重复性及灵活的模块化架构著称，广泛应用于半导体器件表征、薄膜与纳米材料研究、精密表面形貌分析等领域。

型号推荐

Redux AFM 全自动桌面式原子力显微镜

• 台式 AFM 的超快的数据获取时间

• 自动配置、接近和扫描

• 电动 XY 和 Z 平台，可轻松定位样品

• 集成光学显微镜

• 易于使用、耐用的 AFM 芯片

nGauge AFM 便携式原子力显微镜

• 从样品加载到获得 3D 纳米级数据，只需不到三分钟

• 一键式自动操作，几秒钟内即可将探针对准样品

• 每个芯片都能进行 1000 次以上的扫描而无明显磨损

• 维护成本低，操作简便

Part 07.SEM 样品制备-离子研磨仪

SEMPREP SMART 配备了高能量和可选的低能量氩离子枪。用于扫描电子显微镜（SEM）和电子背散射衍射（EBSD）样品的最终加工和清洁。离子加工可以改进和清洁机械抛光的 SEM 样品，并为 EBSD 分析制备无损表面。该设备还适用于快速截面加工。为您制备高精度和高质量的样品，例如在半导体测试或锂离子电池隔膜的截面检查中均能实现出色的效果。

产品特点

• 氩离子束无应力处理样品

• 定位精准：可实现 ±1 微米

• 离子枪能量：0-16kV

• 超大样品腔室：可容纳直径 50mm 样品

• 制冷设计：液氮 LN 制冷

• 可选配真空转移功能

应用案例｜电子器件失效分析

在对焊接部位的焊接情况进行分析时，需要观测该部位剖面的合金相分布情况，此时需要用到截面切削的制样设备--离子研磨仪，进行无应力样品切削制备后，使用飞纳电镜进一步分析焊接情况。

进一步结合 EDS 能谱面扫分析可知：银-锡膏和铜面结合，界面有铜-锡为主合金化晶粒生长，铜引脚有镀镍层，并在内部发现有大量的铁富集相夹杂，近铜界面发现有气孔存在。

焊锡截面 EDS 能谱面扫结果

使用 SEMPREP SMART 处理后的 SEM 图：

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